Elektrochemische Deposition von Co auf Cu(001)

Frank van Dijk; Ruben Sharpe; Peter Broekmann; Herbert Wormeester; Bene Poelsema

Elektrochemische Deposition von Co auf Cu(001)

Frank van Dijk, Ruben Sharpe, Peter Broekmann, Herbert Wormeester, Bene Poelsema

Physics of Interfaces and Nanomaterials

Research output: Contribution to conference › Poster › Other research output

Abstract

In situ STM Ergebnisse der elektrochemischen Deposition von Co auf Cu(001) in einer chloridhaltigen wäßrigen Lösung (8 mM KCl, 1mM CoCl2) werden vorgestellt. Es hat sich erwiesen, daß eine Erhöhung des pH-Wertes entscheidend ist, um die Kobaltdeposition auf Cu(001) zu ermöglichen, ohne daß diese von einer massiven Wasserstoffentwicklung beeinträchtigt wird. Eine Vorbedeckung von Chloridanionen wird benutzt, um die Oberfläche von einer Oxidschicht zu befreien. Hierbei wird die Cu(001) Oberfläche mit einer 10 mM HCl wäßrigen Lösung vorbehandelt. STM Ergebnisse deuten auf eine Oberflächenlegierungsbildung von Kobalt und Kupfer hin. Es erweist sich, daß der Abscheidungs- und Auflösungsprozeß nach einiger Zeit des Zykelns reversibel wird. Es werden Struktur und Morphologie von Kobaltfilmen verschiedener Dicke vorgestellt.

Original language	German
Publication status	Published - 13 Mar 2002
Event	DPG Frühjahrstagung 2002 Regensburg: (DPG Spring Meeting) - Regensburg, Germany Duration: 11 Mar 2002 → 16 Mar 2002 https://www.dpg-verhandlungen.de/year/2002/conference/regensburg/parts?lang=de

Conference

Conference	DPG Frühjahrstagung 2002 Regensburg
Country/Territory	Germany
City	Regensburg
Period	11/03/02 → 16/03/02
Internet address	https://www.dpg-verhandlungen.de/year/2002/conference/regensburg/parts?lang=de

Keywords

METIS-208043

Cite this

@conference{17ce00c4dfcb473180404aa7f803c867,

title = "Elektrochemische Deposition von Co auf Cu(001)",

abstract = "In situ STM Ergebnisse der elektrochemischen Deposition von Co auf Cu(001) in einer chloridhaltigen w{\"a}{\ss}rigen L{\"o}sung (8 mM KCl, 1mM CoCl2) werden vorgestellt. Es hat sich erwiesen, da{\ss} eine Erh{\"o}hung des pH-Wertes entscheidend ist, um die Kobaltdeposition auf Cu(001) zu erm{\"o}glichen, ohne da{\ss} diese von einer massiven Wasserstoffentwicklung beeintr{\"a}chtigt wird. Eine Vorbedeckung von Chloridanionen wird benutzt, um die Oberfl{\"a}che von einer Oxidschicht zu befreien. Hierbei wird die Cu(001) Oberfl{\"a}che mit einer 10 mM HCl w{\"a}{\ss}rigen L{\"o}sung vorbehandelt. STM Ergebnisse deuten auf eine Oberfl{\"a}chenlegierungsbildung von Kobalt und Kupfer hin. Es erweist sich, da{\ss} der Abscheidungs- und Aufl{\"o}sungsproze{\ss} nach einiger Zeit des Zykelns reversibel wird. Es werden Struktur und Morphologie von Kobaltfilmen verschiedener Dicke vorgestellt.",

keywords = "METIS-208043",

author = "{van Dijk}, Frank and Ruben Sharpe and Peter Broekmann and Herbert Wormeester and Bene Poelsema",

year = "2002",

month = mar,

day = "13",

language = "German",

note = "DPG Fr{\"u}hjahrstagung 2002 Regensburg ; Conference date: 11-03-2002 Through 16-03-2002",

url = "https://www.dpg-verhandlungen.de/year/2002/conference/regensburg/parts?lang=de",

}

TY - CONF

T1 - Elektrochemische Deposition von Co auf Cu(001)

AU - van Dijk, Frank

AU - Sharpe, Ruben

AU - Broekmann, Peter

AU - Wormeester, Herbert

AU - Poelsema, Bene

PY - 2002/3/13

Y1 - 2002/3/13

N2 - In situ STM Ergebnisse der elektrochemischen Deposition von Co auf Cu(001) in einer chloridhaltigen wäßrigen Lösung (8 mM KCl, 1mM CoCl2) werden vorgestellt. Es hat sich erwiesen, daß eine Erhöhung des pH-Wertes entscheidend ist, um die Kobaltdeposition auf Cu(001) zu ermöglichen, ohne daß diese von einer massiven Wasserstoffentwicklung beeinträchtigt wird. Eine Vorbedeckung von Chloridanionen wird benutzt, um die Oberfläche von einer Oxidschicht zu befreien. Hierbei wird die Cu(001) Oberfläche mit einer 10 mM HCl wäßrigen Lösung vorbehandelt. STM Ergebnisse deuten auf eine Oberflächenlegierungsbildung von Kobalt und Kupfer hin. Es erweist sich, daß der Abscheidungs- und Auflösungsprozeß nach einiger Zeit des Zykelns reversibel wird. Es werden Struktur und Morphologie von Kobaltfilmen verschiedener Dicke vorgestellt.

AB - In situ STM Ergebnisse der elektrochemischen Deposition von Co auf Cu(001) in einer chloridhaltigen wäßrigen Lösung (8 mM KCl, 1mM CoCl2) werden vorgestellt. Es hat sich erwiesen, daß eine Erhöhung des pH-Wertes entscheidend ist, um die Kobaltdeposition auf Cu(001) zu ermöglichen, ohne daß diese von einer massiven Wasserstoffentwicklung beeinträchtigt wird. Eine Vorbedeckung von Chloridanionen wird benutzt, um die Oberfläche von einer Oxidschicht zu befreien. Hierbei wird die Cu(001) Oberfläche mit einer 10 mM HCl wäßrigen Lösung vorbehandelt. STM Ergebnisse deuten auf eine Oberflächenlegierungsbildung von Kobalt und Kupfer hin. Es erweist sich, daß der Abscheidungs- und Auflösungsprozeß nach einiger Zeit des Zykelns reversibel wird. Es werden Struktur und Morphologie von Kobaltfilmen verschiedener Dicke vorgestellt.

KW - METIS-208043

UR - https://www.dpg-verhandlungen.de/year/2002/conference/regensburg/part/o/session/26/contribution/51

M3 - Poster

T2 - DPG Frühjahrstagung 2002 Regensburg

Y2 - 11 March 2002 through 16 March 2002

ER -

Elektrochemische Deposition von Co auf Cu(001)

Abstract

Conference

Keywords

Other files and links

Cite this