Elektrochemische Deposition von Co auf Cu(001)

Frank van Dijk, Ruben Sharpe, Peter Broekmann, Herbert Wormeester, Bene Poelsema

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Abstract

In situ STM Ergebnisse der elektrochemischen Deposition von Co auf Cu(001) in einer chloridhaltigen wäßrigen Lösung (8 mM KCl, 1mM CoCl2) werden vorgestellt. Es hat sich erwiesen, daß eine Erhöhung des pH-Wertes entscheidend ist, um die Kobaltdeposition auf Cu(001) zu ermöglichen, ohne daß diese von einer massiven Wasserstoffentwicklung beeinträchtigt wird. Eine Vorbedeckung von Chloridanionen wird benutzt, um die Oberfläche von einer Oxidschicht zu befreien. Hierbei wird die Cu(001) Oberfläche mit einer 10 mM HCl wäßrigen Lösung vorbehandelt. STM Ergebnisse deuten auf eine Oberflächenlegierungsbildung von Kobalt und Kupfer hin. Es erweist sich, daß der Abscheidungs- und Auflösungsprozeß nach einiger Zeit des Zykelns reversibel wird. Es werden Struktur und Morphologie von Kobaltfilmen verschiedener Dicke vorgestellt.
Original languageGerman
Publication statusPublished - 13 Mar 2002
EventDPG Frühjahrstagung 2002 Regensburg: (DPG Spring Meeting) - Regensburg, Germany
Duration: 11 Mar 200216 Mar 2002
https://www.dpg-verhandlungen.de/year/2002/conference/regensburg/parts?lang=de

Conference

ConferenceDPG Frühjahrstagung 2002 Regensburg
CountryGermany
CityRegensburg
Period11/03/0216/03/02
Internet address

Keywords

  • METIS-208043

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