Gestaltung der Siliciumoxidoberfläche durch selbstorganisierte Monoschichten

S. Onclin, B.J. Ravoo, David Reinhoudt

    Research output: Contribution to journalArticleAcademic

    Abstract

    Nur wenige Nanometer dicke molekulare Monoschichten können die Eigenschaften von Oberflächen vollkommen verändern. Die Herstellung dieser molekularen Monoschichten kann leicht durch die Langmuir-Blodgett-Methode oder durch chemische Adsorption (Chemisorption) an Metall- und Oxidoberflächen erfolgen. Dieser Aufsatz konzentriert sich auf chemisorbierte selbstorganisierte Monoschichten (SAMs) als Plattformen für die Funktionalisierung von Siliciumoxidoberflächen. Die Organisation von Molekülen und molekularen Aufbauten auf Siliciumoxid wird in der "Bottom-Up"-Nanofabrikation einen außerordentlichen Platz einnehmen und könnte Gebiete wie die Nanoelektronik und die Biotechnologie in naher Zukunft revolutionieren. In den letzten Jahren wurden selbstorganisierte Monoschichten auf Siliciumoxid so weit entwickelt und mit verschiedenen lithographischen Methoden kombiniert, dass neue Nanofabrikationsstrategien und biologische Arrays entwickelt werden können. Will man Fortschritte auf dem Weg von der Bildung zweidimensionaler Muster hin zur dreidimensionalen Fabrikation erzielen, ist die Kontrolle von Oberflächeneigenschaften im Nanometerbereich von größter Bedeutung.
    Original languageUndefined
    Pages (from-to)6438-6462
    JournalAngewandte Chemie
    Volume117
    Issue number39
    DOIs
    Publication statusPublished - 2005

    Keywords

    • Monoschichten
    • Selbstorganisation
    • Siliciumoxid
    • Nanotechnologie
    • Silane
    • IR-72028

    Cite this

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    title = "Gestaltung der Siliciumoxidoberfl{\"a}che durch selbstorganisierte Monoschichten",
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    keywords = "Monoschichten, Selbstorganisation, Siliciumoxid, Nanotechnologie, Silane, IR-72028",
    author = "S. Onclin and B.J. Ravoo and David Reinhoudt",
    year = "2005",
    doi = "10.1002/ange.200500633",
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    volume = "117",
    pages = "6438--6462",
    journal = "Angewandte Chemie",
    issn = "0044-8249",
    publisher = "Wiley-VCH Verlag",
    number = "39",

    }

    Gestaltung der Siliciumoxidoberfläche durch selbstorganisierte Monoschichten. / Onclin, S.; Ravoo, B.J.; Reinhoudt, David.

    In: Angewandte Chemie, Vol. 117, No. 39, 2005, p. 6438-6462.

    Research output: Contribution to journalArticleAcademic

    TY - JOUR

    T1 - Gestaltung der Siliciumoxidoberfläche durch selbstorganisierte Monoschichten

    AU - Onclin, S.

    AU - Ravoo, B.J.

    AU - Reinhoudt, David

    PY - 2005

    Y1 - 2005

    N2 - Nur wenige Nanometer dicke molekulare Monoschichten können die Eigenschaften von Oberflächen vollkommen verändern. Die Herstellung dieser molekularen Monoschichten kann leicht durch die Langmuir-Blodgett-Methode oder durch chemische Adsorption (Chemisorption) an Metall- und Oxidoberflächen erfolgen. Dieser Aufsatz konzentriert sich auf chemisorbierte selbstorganisierte Monoschichten (SAMs) als Plattformen für die Funktionalisierung von Siliciumoxidoberflächen. Die Organisation von Molekülen und molekularen Aufbauten auf Siliciumoxid wird in der "Bottom-Up"-Nanofabrikation einen außerordentlichen Platz einnehmen und könnte Gebiete wie die Nanoelektronik und die Biotechnologie in naher Zukunft revolutionieren. In den letzten Jahren wurden selbstorganisierte Monoschichten auf Siliciumoxid so weit entwickelt und mit verschiedenen lithographischen Methoden kombiniert, dass neue Nanofabrikationsstrategien und biologische Arrays entwickelt werden können. Will man Fortschritte auf dem Weg von der Bildung zweidimensionaler Muster hin zur dreidimensionalen Fabrikation erzielen, ist die Kontrolle von Oberflächeneigenschaften im Nanometerbereich von größter Bedeutung.

    AB - Nur wenige Nanometer dicke molekulare Monoschichten können die Eigenschaften von Oberflächen vollkommen verändern. Die Herstellung dieser molekularen Monoschichten kann leicht durch die Langmuir-Blodgett-Methode oder durch chemische Adsorption (Chemisorption) an Metall- und Oxidoberflächen erfolgen. Dieser Aufsatz konzentriert sich auf chemisorbierte selbstorganisierte Monoschichten (SAMs) als Plattformen für die Funktionalisierung von Siliciumoxidoberflächen. Die Organisation von Molekülen und molekularen Aufbauten auf Siliciumoxid wird in der "Bottom-Up"-Nanofabrikation einen außerordentlichen Platz einnehmen und könnte Gebiete wie die Nanoelektronik und die Biotechnologie in naher Zukunft revolutionieren. In den letzten Jahren wurden selbstorganisierte Monoschichten auf Siliciumoxid so weit entwickelt und mit verschiedenen lithographischen Methoden kombiniert, dass neue Nanofabrikationsstrategien und biologische Arrays entwickelt werden können. Will man Fortschritte auf dem Weg von der Bildung zweidimensionaler Muster hin zur dreidimensionalen Fabrikation erzielen, ist die Kontrolle von Oberflächeneigenschaften im Nanometerbereich von größter Bedeutung.

    KW - Monoschichten

    KW - Selbstorganisation

    KW - Siliciumoxid

    KW - Nanotechnologie

    KW - Silane

    KW - IR-72028

    U2 - 10.1002/ange.200500633

    DO - 10.1002/ange.200500633

    M3 - Article

    VL - 117

    SP - 6438

    EP - 6462

    JO - Angewandte Chemie

    JF - Angewandte Chemie

    SN - 0044-8249

    IS - 39

    ER -