Network parameter fitting of orientation dependent etching of silicon

E. van Veenendaal, J. van Suchtelen, K. Sato, A.J. Nijdam, Johannes G.E. Gardeniers, W.J.P. van Enckevort, Michael Curt Elwenspoek

    Research output: Other contributionOther research output

    Original languageUndefined
    Place of PublicationEnschede
    Publication statusPublished - 23 Jun 1998

    Keywords

    • METIS-114640

    Cite this

    van Veenendaal, E., van Suchtelen, J., Sato, K., Nijdam, A. J., Gardeniers, J. G. E., van Enckevort, W. J. P., & Elwenspoek, M. C. (1998, Jun 23). Network parameter fitting of orientation dependent etching of silicon. Enschede.