Prozessüberwachung beim Laserreinigen und Laserschichtabtrag durch Anwendung der Plasmaanalyse mittels "low resolution" Spektrometer

M. Lentjes, Klaus Dickmann, J. Meijer

    Research output: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contributionAcademic

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    Abstract

    Bei der Laserreinigung und dem Laserabtrag an Mehrschichtsystemen ist es von großer Bedeutung, eine Be-schädigung der zu erhaltenden Schicht zu vermeiden. Ein Verfahren zur Überwachung des Laserabtragsprozes-ses ist die "Laser Induzierte Plasma Spektroskopie" (LIPS) [1,2,3,4]. Unterschiede im Schichtaufbau bewirken Veränderungen im Spektrum und der Intensität des Plasmas. Ein Nachteil gebräuchlicher LIPS-Systeme sind die hohen Investitionskosten und die komplexe Handhabung. Neueste Entwicklungen in der Spektrometer-Technologie bieten inzwischen sehr kompakte Systeme mit einfacher Handhabung und niedrigen Investitions-kosten [5,6]. Im Laserzentrum der FH Münster wurde ein "low cost"-LIPS-System zur Laserreinigung/-abtrag in einem Excimer-Laser und Nd:YAG-Laser (mit Frequenzvervielfachung) integriert, um den Abtragprozess zu ü-berwachen und ggf. zu regeln. Die Schichterkennung funktioniert über lineare Korrelation mit vorher aufge-nommenem Referenzspektrum [7,8,9]. Wenn der Korrelationskoeffizient sich einem vorher festgelegten Wert nähert, wird der Abtrags-/Reinigungsprozess gestoppt. Erste Tests haben positive Ergebnisse gezeigt und werden zusammen mit dem Verfahren in diesem Artikel beschrieben.
    Original languageUndefined
    Title of host publicationProceedings 2nd Remagener Physiktage 2004, 29 September - 1 October 2005, Remagen, Germany
    EditorsU. Hartmann, M. Kohl-Bareis, P. Hering, G. Lonsdale, J. Bongartz, T.M. Buzug
    Place of PublicationBerlin, Germany
    PublisherVDE Verlag
    Pages288-293
    Number of pages6
    ISBN (Print)3-8007-2838
    Publication statusPublished - 29 Sep 2005

    Keywords

    • METIS-224330
    • IR-52653

    Cite this

    Lentjes, M., Dickmann, K., & Meijer, J. (2005). Prozessüberwachung beim Laserreinigen und Laserschichtabtrag durch Anwendung der Plasmaanalyse mittels "low resolution" Spektrometer. In U. Hartmann, M. Kohl-Bareis, P. Hering, G. Lonsdale, J. Bongartz, & T. M. Buzug (Eds.), Proceedings 2nd Remagener Physiktage 2004, 29 September - 1 October 2005, Remagen, Germany (pp. 288-293). Berlin, Germany: VDE Verlag.
    Lentjes, M. ; Dickmann, Klaus ; Meijer, J. / Prozessüberwachung beim Laserreinigen und Laserschichtabtrag durch Anwendung der Plasmaanalyse mittels "low resolution" Spektrometer. Proceedings 2nd Remagener Physiktage 2004, 29 September - 1 October 2005, Remagen, Germany. editor / U. Hartmann ; M. Kohl-Bareis ; P. Hering ; G. Lonsdale ; J. Bongartz ; T.M. Buzug. Berlin, Germany : VDE Verlag, 2005. pp. 288-293
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    Lentjes, M, Dickmann, K & Meijer, J 2005, Prozessüberwachung beim Laserreinigen und Laserschichtabtrag durch Anwendung der Plasmaanalyse mittels "low resolution" Spektrometer. in U Hartmann, M Kohl-Bareis, P Hering, G Lonsdale, J Bongartz & TM Buzug (eds), Proceedings 2nd Remagener Physiktage 2004, 29 September - 1 October 2005, Remagen, Germany. VDE Verlag, Berlin, Germany, pp. 288-293.

    Prozessüberwachung beim Laserreinigen und Laserschichtabtrag durch Anwendung der Plasmaanalyse mittels "low resolution" Spektrometer. / Lentjes, M.; Dickmann, Klaus; Meijer, J.

    Proceedings 2nd Remagener Physiktage 2004, 29 September - 1 October 2005, Remagen, Germany. ed. / U. Hartmann; M. Kohl-Bareis; P. Hering; G. Lonsdale; J. Bongartz; T.M. Buzug. Berlin, Germany : VDE Verlag, 2005. p. 288-293.

    Research output: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference contributionAcademic

    TY - GEN

    T1 - Prozessüberwachung beim Laserreinigen und Laserschichtabtrag durch Anwendung der Plasmaanalyse mittels "low resolution" Spektrometer

    AU - Lentjes, M.

    AU - Dickmann, Klaus

    AU - Meijer, J.

    PY - 2005/9/29

    Y1 - 2005/9/29

    N2 - Bei der Laserreinigung und dem Laserabtrag an Mehrschichtsystemen ist es von großer Bedeutung, eine Be-schädigung der zu erhaltenden Schicht zu vermeiden. Ein Verfahren zur Überwachung des Laserabtragsprozes-ses ist die "Laser Induzierte Plasma Spektroskopie" (LIPS) [1,2,3,4]. Unterschiede im Schichtaufbau bewirken Veränderungen im Spektrum und der Intensität des Plasmas. Ein Nachteil gebräuchlicher LIPS-Systeme sind die hohen Investitionskosten und die komplexe Handhabung. Neueste Entwicklungen in der Spektrometer-Technologie bieten inzwischen sehr kompakte Systeme mit einfacher Handhabung und niedrigen Investitions-kosten [5,6]. Im Laserzentrum der FH Münster wurde ein "low cost"-LIPS-System zur Laserreinigung/-abtrag in einem Excimer-Laser und Nd:YAG-Laser (mit Frequenzvervielfachung) integriert, um den Abtragprozess zu ü-berwachen und ggf. zu regeln. Die Schichterkennung funktioniert über lineare Korrelation mit vorher aufge-nommenem Referenzspektrum [7,8,9]. Wenn der Korrelationskoeffizient sich einem vorher festgelegten Wert nähert, wird der Abtrags-/Reinigungsprozess gestoppt. Erste Tests haben positive Ergebnisse gezeigt und werden zusammen mit dem Verfahren in diesem Artikel beschrieben.

    AB - Bei der Laserreinigung und dem Laserabtrag an Mehrschichtsystemen ist es von großer Bedeutung, eine Be-schädigung der zu erhaltenden Schicht zu vermeiden. Ein Verfahren zur Überwachung des Laserabtragsprozes-ses ist die "Laser Induzierte Plasma Spektroskopie" (LIPS) [1,2,3,4]. Unterschiede im Schichtaufbau bewirken Veränderungen im Spektrum und der Intensität des Plasmas. Ein Nachteil gebräuchlicher LIPS-Systeme sind die hohen Investitionskosten und die komplexe Handhabung. Neueste Entwicklungen in der Spektrometer-Technologie bieten inzwischen sehr kompakte Systeme mit einfacher Handhabung und niedrigen Investitions-kosten [5,6]. Im Laserzentrum der FH Münster wurde ein "low cost"-LIPS-System zur Laserreinigung/-abtrag in einem Excimer-Laser und Nd:YAG-Laser (mit Frequenzvervielfachung) integriert, um den Abtragprozess zu ü-berwachen und ggf. zu regeln. Die Schichterkennung funktioniert über lineare Korrelation mit vorher aufge-nommenem Referenzspektrum [7,8,9]. Wenn der Korrelationskoeffizient sich einem vorher festgelegten Wert nähert, wird der Abtrags-/Reinigungsprozess gestoppt. Erste Tests haben positive Ergebnisse gezeigt und werden zusammen mit dem Verfahren in diesem Artikel beschrieben.

    KW - METIS-224330

    KW - IR-52653

    M3 - Conference contribution

    SN - 3-8007-2838

    SP - 288

    EP - 293

    BT - Proceedings 2nd Remagener Physiktage 2004, 29 September - 1 October 2005, Remagen, Germany

    A2 - Hartmann, U.

    A2 - Kohl-Bareis, M.

    A2 - Hering, P.

    A2 - Lonsdale, G.

    A2 - Bongartz, J.

    A2 - Buzug, T.M.

    PB - VDE Verlag

    CY - Berlin, Germany

    ER -

    Lentjes M, Dickmann K, Meijer J. Prozessüberwachung beim Laserreinigen und Laserschichtabtrag durch Anwendung der Plasmaanalyse mittels "low resolution" Spektrometer. In Hartmann U, Kohl-Bareis M, Hering P, Lonsdale G, Bongartz J, Buzug TM, editors, Proceedings 2nd Remagener Physiktage 2004, 29 September - 1 October 2005, Remagen, Germany. Berlin, Germany: VDE Verlag. 2005. p. 288-293