Prozesskontrolle bei der Laserreinigung durch Plasmaanalyse mittels niedrig auflösendem Spektrometer

M. Lentjes, Klaus Dickmann, J. Meijer

    Research output: Contribution to journalArticleProfessional

    Original languageUndefined
    Pages (from-to)84-87
    Number of pages4
    JournalPhotonik
    Volume37
    Issue number3
    Publication statusPublished - 2005

    Keywords

    • METIS-224353
    • IR-52672

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    Prozesskontrolle bei der Laserreinigung durch Plasmaanalyse mittels niedrig auflösendem Spektrometer. / Lentjes, M.; Dickmann, Klaus; Meijer, J.

    In: Photonik, Vol. 37, No. 3, 2005, p. 84-87.

    Research output: Contribution to journalArticleProfessional

    TY - JOUR

    T1 - Prozesskontrolle bei der Laserreinigung durch Plasmaanalyse mittels niedrig auflösendem Spektrometer

    AU - Lentjes, M.

    AU - Dickmann, Klaus

    AU - Meijer, J.

    PY - 2005

    Y1 - 2005

    KW - METIS-224353

    KW - IR-52672

    M3 - Article

    VL - 37

    SP - 84

    EP - 87

    JO - Photonik

    JF - Photonik

    SN - 1432-9778

    IS - 3

    ER -