UHV-opstelling voor het bestuderen van de contaminatie van EUV-spiegels

Jacobus Marinus Sturm, Feng Liu, M.L. Grecea, M.A. Gleeson, Christopher James Lee, Frederik Bijkerk

Research output: Contribution to journalArticleAcademic

57 Downloads (Pure)

Abstract

Het begrijpen en controleren van verontreiniging van extreem ultraviolet (EUV) -spiegels door EUV-geïnduceerde fotochemische reacties is belangrijk voor een goede werking en levensduur van lithografiemachines. Om deze processen op fundamenteel niveau te bestuderen, is een UHV-opstelling ontwikkeld die gekoppeld is aan een EUVbron en geschikt is voor het bestuderen van oppervlaktereacties met behulp van een thermische-desorptietechniek en infraroodspectroscopie. Deze technieken zijn gevoelig voor submonolagen − moleculen die een oppervlak gedeeltelijk bedekken − zodat de moleculaire mechanismen van adsorptie en chemische reacties bestudeerd kunnen worden. Als voorbeeld wordt de adsorptie van water op Ru(0001) getoond.
Original languageDutch
Pages (from-to)12-15
Number of pages4
JournalNEVAC blad
Volume51
Issue number1
Publication statusPublished - 2013

Keywords

  • IR-88115
  • METIS-299288

Cite this