Abstract
Het begrijpen en controleren van verontreiniging van extreem ultraviolet (EUV) -spiegels door EUV-geïnduceerde fotochemische reacties is belangrijk voor een goede werking en levensduur van lithografiemachines. Om deze processen op fundamenteel niveau te bestuderen, is een UHV-opstelling ontwikkeld die gekoppeld is aan een EUVbron en geschikt is voor het bestuderen van oppervlaktereacties met behulp van een thermische-desorptietechniek en infraroodspectroscopie. Deze technieken zijn gevoelig voor submonolagen − moleculen die een oppervlak gedeeltelijk bedekken − zodat de moleculaire mechanismen van adsorptie en chemische reacties bestudeerd kunnen worden. Als voorbeeld wordt de adsorptie van water op Ru(0001) getoond.
| Original language | Dutch |
|---|---|
| Pages (from-to) | 12-15 |
| Number of pages | 4 |
| Journal | NEVAC blad |
| Volume | 51 |
| Issue number | 1 |
| Publication status | Published - 2013 |
Keywords
- IR-88115
- METIS-299288